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홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)는 25일(현지시간) “중국이 마이크로칩 생산에 사용되는 리소그래피 장비에 대한 제재를 우회할 새로운 방법으로 ‘제조의 현지화’를 모색하고 있다”며 “입자가속기를 사용해 새로운 리소그래피를 제작할 수 있는 공장을 세우고 있다”고 보도했다.
미국의 대중국 수출 규제에 동참하기로 한 네덜란드 정부는 이달 1일부터 ASML 등 자국 기업에 EUV 리소그래피 장비 등 생산설비를 수출하려면 정부의 라이선스(허가)를 의무로 받는 조치를 시행했다. EUV 리소그래피 장비는 가장 최첨단 리소그래피 장비다. ASML은 EUV 리소그래피 기술과 이 기술에 쓰이는 장비를 보유한 유일 기업이다.
칭화대의 탕 촨샹 교수는 대학 웹사이트를 통해 “EUV 리소그래피 장비를 독자적으로 개발하려면 아직 갈 길이 멀다”면서도 “SSMB로 만든 EUV 광원이 제재 기술에 대한 대안이 될 수 있다”고 밝혔다. SSMB는 탕교수 연구팀이 개발한 새로운 발광 메커니즘으로 SSMB를 활용하면 EUV광을 생산해 EUV 공정을 활용한 칩 생산이 가능해진다.
한편 7nm 공정 반도체 등 첨단 칩을 만들기 위해서는 ASML이 독점 생산하는 EUV 리소그래피 장비가 반드시 필요한 것으로 알려졌으나 최근 중국은 해당 규모의 칩으로 만든 스마트폰(화웨이사의 메이트 60프로)을 출시했다. SCMP는 “화웨이가 칩 제조 분야에서 획기적인 성과를 거두면서 중국의 공장 건설 계획이 대중의 주목을 받게 된 것”이라고 부연했다.
공장 건설 계획은 2017년부터 제시됐다. 계획을 제안한 중국 칭와대 연구팀은 현재 공장 건설 부지를 선정하기 위해 슝안신구 신도시 당국과 활발히 논의하고 있다.